设备名称：管式炉
设备型号：OTL1200Q80*1000
功能作用：制备CVD、气氛保护烧结、真空烧结
设备简介：可多种气氛保护。控制系统采用多段程序控制，控制精确，先进，适用于新产品的试制实验。
设备信息：炉体结构：双层壳体结构，并配有风冷系统（对开式） 控温方式：40段程序控温 PID调节 可控硅控制 炉体表面温度：小于等于35度
