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  设备名称:
管式炉
设备型号:

OTL1200Q80*1000

功能作用:
制备CVD、气氛保护烧结、真空烧结
设备简介:
可多种气氛保护。控制系统采用多段程序控制,控制精确,先进,适用于新产品的试制实验。
设备信息:
炉体结构:双层壳体结构,并配有风冷系统(对开式)
控温方式:40段程序控温 PID调节 可控硅控制
炉体表面温度:小于等于35度

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